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2019年11月18日研究发现，抛光速率随浆料中Si02固含量的增加会发生材料去除饱和现象；抛光速率随抛光压力和抛光转速增加而呈次线性方式增加，说明CMP是机械和化学协同作用的过 2024年10月6日二氧化硅的超细研磨方法主要分为物理法和化学法两大类： 1物理法物理法主要通过机械力将大颗粒的二氧化硅粉碎成超细粉末，常见的物理法包括：机械研磨法：通过机械设备“细胞磨”来进行研磨，细胞磨通过研磨腔内二氧化硅粉体粉碎机、粉体超细磨、立式粉碎机知乎2021年8月2日目前，在CMP工艺中，常用的磨料主要包括二氧化硅溶胶、二氧化铈和氧化铝，其中二氧化铈的优点是其抛光速率快、硬度小、稳定性好，但目前采用的二氧化铈大都是机械研纳米二氧化硅为什么是CMP抛光的宠儿中晶能投资集团（海南 2009年5月21日氧化铁红中速磨氧化铁红中应用的着色剂技术淄博宝颜化工有限公司 2011年8月15日如氧化铁红的有效含量为含铁量,一般含量为95%以上,若含铁量低,则着色剂中掺杂有其氧化铁红中速磨中速磨煤机技术资料1985年沈重从德国Babcock公司引进MPS型中速磨煤机设计及生产制造技术。从1985年至今，沈重陆续从德国三个公司引进了相关技术。沈重在长期消化吸收引进技术中速磨煤机技术资料百度文库本文首先结合我厂#1机组6台磨煤机近两个月的运行实测数据，对本系统的利弊进行了总结分析；然后综述并分析了目前各发电厂对中速碗式磨煤机排煤系统改造的典型方案，特别对国华定国华锦界电厂磨煤机石子煤排放系统改造规划项目百度文库

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